📖 Теоретическое исследование тонких пленок карбида кремния. Их структура и свойства.

Карбид кремния представляет собой перспективный материал, широко применяемый в полупроводниковой технике. Он обладает рядом уникальных свойств,что может позволить улучшить практически все характеристики приборов силовой и цифровой электроники, созданных на его основе.Развитию полупроводниковой SiC-электроники препятствует низкое качество выращиваемых монокристаллов карбида кремния. Получение качественных малодефектных кристаллов SiC определенного политипа сопряжено с рядом трудностей, и одна из них – эффективная система управления процессом роста кристалла. Основная идея данной работы заключалась в изучении структуры, свойств и возможности получения графеноподобного 2D SiC. Было изучено влияние числа слоев на возможность перехода из одной модификации карбида кремния в другую. Были изучены системы 2D SiC на пластинках Mg (0001) и Zr (0001), как на потенциальных материалах для подложек при выращивании монослоя, а также исследовано поведение дефектов в монослое SiС и их влияние на физические свойства материала.